光糸リフト よくある質問

光糸リフトは、近赤外線を用いた真皮育成型の美容機器です。S（750–1100nm）とD（950–1300nm）の2つの波長域を使い、真皮を38〜42℃の育成温度域に保ちながら、壊さずに真皮環境を整える方向で設計されています。高出力で組織を変性させるのではなく、真皮が本来持つ回復と循環の仕組みが働きやすい環境を作ることを目指しています。詳しい技術仕様はTECHNOLOGYページをご覧ください。

HIFUは超音波を深い層（SMAS層など）に集中させ、熱凝固点を作ることで即時的な引き締めを狙う方式です。光糸リフトは近赤外線で真皮層を38〜42℃に保ち、環境そのものを整える設計です。「大きく変える技術」と「長く整え続ける技術」として、役割と設計思想が異なります。詳しくは比較ページで整理しています。

RF（ラジオ波）は高周波電流によるジュール熱で組織内部を発熱させ、引き締めを狙う方式です。光糸リフトは電流ではなく近赤外線の光エネルギーを使い、真皮環境を38〜42℃に整える方向で設計されています。「硬く引き締める方向」と「しなやかに育てる方向」という違いがあります。どちらが優れているという比較ではなく、目指す方向性が異なるという整理です。

LEDパネルは広い面積に穏やかな光を照射し、表皮から浅い真皮にかけてマイルドに働きかける方式です。光糸リフトは密着照射で真皮層にエネルギーを集中的に届け、38〜42℃の温度域を管理する温熱PBMとして設計されています。「表面を整える光」と「土台を育てる光」として、それぞれの役割が異なります。LEDケアと排他的な関係ではなく、役割の違いとして捉えていただければと思います。

太陽光にも近赤外線は含まれていますが、波長の選択、エネルギー密度、照射距離、温度管理がまったく異なります。光糸リフトは真皮に届く波長域を選択し、38〜42℃の育成温度域を維持できるよう設計されています。太陽光のように無制御で浴びる近赤外線とは、目的も設計も異なります。

光糸リフトは38〜42℃の育成温度域で設計されているため、高温の熱作用に頼る方式と比べて、施術時の負担が抑えられる傾向にあります。個人差はありますが、日常生活に支障をきたすようなダウンタイムは想定されていません。ただし、感じ方には個人差がありますので、詳しくは無料説明会でご確認ください。

強い刺激やダウンタイムに頼らない施術を提供したいサロン、肌の土台を整える方向性でメニューを設計したいサロンに向いています。既存の表層ケアでは差別化が難しいと感じている方や、お客様に根拠のある説明ができる技術を求めている方にも選ばれています。導入の適性についてはPROGRAMページで詳しくご案内しています。

波長・エネルギー密度・温度設計・冷却設計・到達層が数値で開示されているかどうかは、美容機器を選ぶうえで重要な判断軸です。光糸リフトはこれらの仕様を公開しており、無料説明会でも詳しくご説明しています。「名前」ではなく「設計」で比較できる状態を作ったうえで、ご判断いただくことをおすすめしています。

無料説明会では、光糸リフトの技術仕様、設計思想、他方式との違い、導入フロー、メニュー構成、研修内容、費用感まで、導入判断に必要な情報を一通りご案内しています。その場で契約を求めることはありません。詳しくは説明会ページをご覧ください。

光糸リフトはHIFU、RF、LEDなど他方式の機器と排他的な関係にはなりません。それぞれ作用する層や設計思想が異なるため、メニュー構成のなかで役割を分けて併用されているサロンもあります。具体的な組み合わせや施術スケジュールについては、無料説明会で詳しくご案内しています。

機器構成（S単体・D単体・S＋D二層導入）によって費用が異なります。詳細な価格はTECHNOLOGYページに記載しています。設置工事・研修費用が別途発生する場合がありますので、正確なお見積りについては無料説明会でご確認ください。

真皮育成とは、高温で組織を壊して再構築を促すのではなく、真皮が本来持っている回復・循環の仕組みが働きやすい環境を整えるという考え方です。光糸リフトは38〜42℃の温度域を維持することで、壊さず、整える方向を選んでいます。この設計思想の背景は比較ページでも整理しています。